近期,北京銘鎵半導體有限公司(以下簡稱:銘鎵半導體)使用導模法成功制備了高質量4英寸(001)主面氧化鎵(β-Ga2O3)單晶,完成了4英寸氧化鎵晶圓襯底技術突破,并且進行了多次重復性實驗,成為國內首個掌握第四代半導體氧化鎵材料4英寸(001)相單晶襯底生長技術的產業(yè)化公司。
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銘鎵半導體在4英寸氧化鎵晶圓襯底技術領域獲突破 |
作者
huang, Mia
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發(fā)布日期:
2022 年 12 月 08 日 17:09
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關鍵字:
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